半导体制造用
FUD-1Model-13
测量原理
超声波在液体中非常易于传播
超声波在溶液中传播的速度受溶液的浓度和温度影响
「浓度变化」→「密度变化」→「音速变化」
本产品利用超声波的特性，高精度的测量溶液的浓度
测量「溶液的温度」+「超声波的速度」→通过CPU演算处理→浓度显示
可根据检量线的交换测量各种半导体药液的浓度
发信器小型、轻量，可直接在线装置
免保养设计
接液部分全部采用（PFA)材料
小型输出设计，对药液没有影响
单成分浓度计的特点
实时浓度测量可能，浓度管理系统构筑简单
模拟DC4～20mA及数字RS232C标准输出
标配测量错误输出和警报输出
标配自我诊断功能·错误信息提示
小型·轻量小型发信器在线直接设置可能
采用PFA的接液构件、小输出设计对药液没有影响
优点
高精度连续计测可能
无需定期调整、校对，无需维护
设置时的各种调整等不需要也容易设置
由于实时输出反馈也容易
用途
在CMP工序中的CMP衬垫或氧化剂浓度管理等
稀释工程的各种药液浓度管理等（H2O2?TMAH?HNO3?H2SO4?HCl等）
在清洗过程中的清洗液浓度管理等（HF?NH4OH?KOH?IPA等）
蚀刻工序中的蚀刻液浓度管理等（HF?H2SO4等）
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https://www.chem17.com/st531671/product_37173002.html
原文链接：http://xwbmt01.zgsh.org.cn/news/itemid-1399.shtml，转载和复制请保留此链接。
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